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華為公開“VR光學模組及VR設備”專利

2024年3月12日 08:09  愛集微  作 者:趙月

天眼查顯示,近日華為技術有限公司新增多條專利信息,其中一條名稱為“VR光學模組及VR設備”,公開號為CN117666137A。

專利摘要顯示,本申請公開了一種VR光學模組及VR設備,屬于VR技術領域。所述VR光學模組包括從圖像源至人眼依次排布的第一透鏡、第二透鏡和分光組件,第一透鏡的兩個相背的面中的一個面至少存在一個光焦度反曲點,第二透鏡的兩個相背的面中的一個面為部分反射面,圖像源用于產(chǎn)生承載待投射圖像的具有第一偏振態(tài)的光束,第一透鏡用于透射具有第一偏振態(tài)的光束至第二透鏡,第二透鏡用于透射具有第一偏振態(tài)的光束至分光組件,分光組件用于反射具有第一偏振態(tài)的光束至第二透鏡的部分反射面,第二透鏡的部分反射面用于反射光束至分光組件,分光組件用于接收具有第二偏振態(tài)的光束,并透射光束至人眼。本申請能提升虛像的質量,并且減小VR設備的成本和體積。

據(jù)悉,截至2022年底,華為持有超過12萬項有效授權專利,主要分布在中國、歐洲、美洲、亞太、中東和非洲。其中,華為在中國和歐洲各持有4萬多項專利,在美國持有22000多項專利。華為2023年前三季度研發(fā)費用為1149.91億元,預計10年間累計研發(fā)費用可突破萬億元。根據(jù)歐盟2023年最新數(shù)據(jù),華為研發(fā)費用排名世界第五。

編 輯:路金娣
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