6月30日消息，據(jù)媒體報道，臺積電正全力以赴，加速安裝對2nm工藝量產(chǎn)至關(guān)重要的EUV光刻機。為了滿足這一高端生產(chǎn)需求，臺積電計劃在今明兩年接收超過60臺EUV光刻機，預計投資總額將超過123億美元（折合人民幣約894億元）。
隨著ASML（阿斯麥）公司產(chǎn)能的持續(xù)擴大，預計到2025年，EUV光刻機的交付量將實現(xiàn)30%以上的顯著增長。作為這一趨勢的直接受益者，臺積電正緊鑼密鼓地準備迎接這一供應潮。據(jù)了解，ASML去年為滿足市場需求已計劃增產(chǎn)，預計今年將交付53臺EUV光刻機，而到了明年，這一數(shù)字將攀升至72臺以上。
不僅如此，ASML在2025年的產(chǎn)能目標中，更是規(guī)劃了90臺EUV光刻機、600臺DUV光刻機以及20臺前沿的High-NA EUV光刻機。這一雄心勃勃的產(chǎn)能規(guī)劃，無疑將為包括臺積電在內(nèi)的全球芯片制造商提供更強大的技術(shù)支持。
然而，值得注意的是，EUV光刻機的供應目前仍面臨緊張局面，交貨周期通常在16至20個月之間。這意味著，盡管臺積電已在2024年預訂了30臺EUV光刻機，并計劃在2025年再訂購35臺，但這些訂單的大部分可能要到2025年甚至更晚才能實際交付。
不過，考慮到臺積電可能會根據(jù)市場變化和自身需求對資本支出計劃進行靈活調(diào)整，上述數(shù)字可能會根據(jù)實際情況有所變動。此外，業(yè)界普遍期待臺積電能在今年內(nèi)接收到最新的High-NA EUV光刻機，這將為其在高端芯片制造領域的競爭力再添助力。
